[发明专利]等离子涂层方法无效
| 申请号： | 01813728.8 | 申请日： | 2001-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN1446269A | 公开（公告）日： | 2003-10-01 |
| 发明（设计）人： | 让－特里斯坦·乌特勒曼;埃里克·阿德里安森斯 | 申请（专利权）人： | 西德尔公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 黄必青 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使用一种低压等离子体在一个要处理的物体上沉积一个涂层的方法，其中等离子体通过在一个电磁场的作用下使一种低压注入到处理区的反应流体部分离子化得到，该方法的特征在于该方法包括至少两个步骤：一个第一步骤，在这个步骤中，反应流体在一定压力下以第一流量注入到处理区中；一个第二步骤，在这个步骤中，同一反应流体以一个低于第一流量的第二流量注入到处理区中。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使用一低压等离子体在一要处理的物体上沉积一涂层的方法，其中，所述等离子体是通过在一电磁场的作用下使一种低压注入到处理区的反应流体部分离子化来得到的，所述方法的特征在于，所述方法包括至少两个步骤：—一个第一步骤，在这个步骤中，所述反应流体在一给定压力下以第一流量注入到处理区中；—一个第二步骤，在这个步骤中，同一反应流体以一个低于第一流量的第二流量注入到处理区中。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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