[发明专利]存储单元,存储单元装置和制造方法有效

专利信息
申请号: 01813957.4 申请日: 2001-08-06
公开(公告)号: CN1446378A 公开(公告)日: 2003-10-01
发明(设计)人: H·帕尔姆;J·威尔默;A·格拉茨;J·克里滋;M·雷赫里奇 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8246;H01L29/792;H01L21/336
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明,张志醒
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 每个存储单元均为一个存储晶体管,其安置于半导体本体的顶面,其具有位于源极区(3)和漏极区(4)之间的沟槽中的栅电极(2),源极区和漏极区形成于半导体材料之中。栅电极通过电介质材料与半导体材料相隔离。至少在源极区与栅电极之间和漏极区与栅电极之间具有一个“氧化物—氮化物—氧化物”层序列(5,6,7),其用于在源极和漏极捕获电荷载流子。
搜索关键词: 存储 单元 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种具有存储晶体管的存储单元,晶体管位于半导体本体(1)或半导体层的顶面上,具有位于源极区和漏极区之间的栅电极(2),源极区(3)和漏极区(4)形成于半导体材料之中,并且栅电极通过电介质材料与半导体材料隔离,其特征在于至少在源极区(3)与栅电极(2)之间和漏极区(4)与栅电极(2)之间具有一个包括存储层(6)的层序列,存储层(6)处于边界层(5,7)之间。
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