[发明专利]在箔片中设置凹穴图案的方法无效
| 申请号： | 01815518.9 | 申请日： | 2001-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1455738A | 公开（公告）日： | 2003-11-12 |
| 发明（设计）人： | J·黑尔;G·哈德兹奥安诺 | 申请（专利权）人： | 泽特弗里公司 |
| 主分类号： | B41M3/00 | 分类号： | B41M3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在箔片中设置多个凹穴的方法，所述凹穴在凹穴图案中彼此相对设置并沿箔片的第一侧延伸，每个凹穴从第一侧向与第一侧相反的箔片的第二侧的方向延伸，该方法至少包括以下步骤：(a)将一介质图案涂覆到未处理的箔片上，所述介质图案包括在溶剂中可溶解的介质，并且该介质图案与将要设置的凹穴图案一致，(b)将一罩膜层涂覆到箔片上，(c)带有涂覆于其上的罩膜层的箔片开始与溶剂接触，由此当介质图案溶解时，基本上已经涂覆到介质图案上的部分罩膜层从箔片上被除去，从而得到具有开口图案的罩膜层，以及(d)具有开口图案的箔片的至少一部分暴露于箔片腐蚀环境，由此形成凹穴图案，其特征在于，在步骤(a)中，利用打印技术进行介质图案的涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 片中 设置 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在箔片中设置多个凹穴的方法，所述凹穴在凹穴图案中彼此相对设置并沿箔片的第一侧延伸，每个凹穴从第一侧向与第一侧相反的箔片的第二侧的方向延伸，该方法至少包括以下步骤：(a)将一介质图案涂覆到未经处理的箔片上，所述介质图案包括在溶剂中可溶解的介质，并且该介质图案与将要设置的凹穴图案一致，(b)将一罩膜层涂覆到箔片上，(c)带有涂覆于其上的罩膜层的箔片开始与溶剂接触，由此当介质图案溶解时，基本上已经涂覆到介质图案上的部分罩膜层从箔片上被除去，从而得到具有开口图案的罩膜层，以及(d)具有开口图案的箔片至少是部分暴露于箔片腐蚀环境，由此形成凹穴图案，其特征在于，在步骤(a)中，利用打印技术进行介质图案的涂覆。
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