[发明专利]气相沉积有效
| 申请号： | 01815762.9 | 申请日： | 2001-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN1458985A | 公开（公告）日： | 2003-11-26 |
| 发明（设计）人： | J·A·F·M·沙德范维斯特鲁姆;J·L·林登;J·F·M·维尔图伊斯 | 申请（专利权）人： | 科鲁斯技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏,黄力行 |
| 地址： | 荷兰艾恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将涂层施加到衬底上的方法，其中所述涂层是由至少两种组分或者元素形成的。在一个优选的实施例中，所述涂层是由至少两种金属形成的。根据本发明，在扼流的状态下通过气相沉积施加涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种用于将涂层施加到衬底上的方法，其中，在扼流的状态下将至少第一蒸气和第二蒸气沉积在所述衬底上。
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