[发明专利]等离子体处理装置及排气环

摘要

本发明可以得到具有耐等离子体性高、可抑制异常放电的排气环的等离子体处理装置。处理室(100)包含配置上部电极(112)的顶板部(110)，和配置可载置与上部电极(112)对置配置的下部电极(122)的容器部(120)。在下部电极(122)周围配以排气环(126)，以便划分处理室(100)内的等离子体处理空间(102)和排气空间(104)，在排气环(126)上形成贯通孔(126a)和比贯通孔(126a)数量少，且在等离子体处理空间(102)侧开口的盲孔(126b)。在排气环(126)的等离子体处理空间(102)侧表面上施以由Y2O3构成的绝缘膜。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其具有：处理室；在所述处理室内可载置被处理体的第1电极；在所述处理室内与所述第1电极对置配置的第2电极；可向所述处理室内导入处理气体的处理气体供给系统；可对所述处理室内真空排气的排气系统；以及在所述第1及第2电极的至少一方上施加高频电力，使所述处理气体等离子体化，向所述被处理体实施规定的等离子体处理的高频电力供给系统，其特征为，在所述第1电极周围配置排气环，以便划分处理室内的等离子体处理空间和排气空间，在所述排气环上形成贯通孔和凹凸部。