[发明专利]树脂密封型半导体装置及使用的芯片焊接材料和密封材料有效
申请号: | 01816599.0 | 申请日: | 2001-09-28 |
公开(公告)号: | CN1466774A | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | 蔵渕和彦;铃木直也;安田雅昭;河田达男;酒井裕行;川澄雅夫 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/58 | 分类号: | H01L21/58;H01L23/28;C08L63/02;C08K3/00 |
代理公司: | 北京银龙专利代理有限公司 | 代理人: | 徐川 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是一种树脂密封型半导体装置,其特征在于,具备:具有芯片焊接底板和内引线的引线框架,通过芯片焊接材料设置在上述芯片焊接底板上的半导体芯片,和密封上述半导体芯片和引线框架的密封材料。将25℃时的密封材料的挠曲强度设为σb(MPa)、密封材料相对于焊锡安装峰值温度下的内引线和芯片焊接底板的的剪切应变能分别设为Ui(N·m)、Ud(N·m)时,固化后的芯片焊接材料和密封材料的特性满足以下式(1)、式(2)、式(3):σe≤0.2×σb式(1)、Ui≥2.0×10-6×σei式(2)、Ud≥4.69×10-6×σed式(3)。其中,σe=(1/log(Kd1))×Ee1×(αm-αe1)×ΔT1式(4)、σei=Ee2×(αe2-αm)×ΔT2式(5)、σed=log(Kd2)×Ee2×(αe2-αm)×ΔT2式(6)。Kd1:25℃时的芯片焊接材料的弯曲弹性系数Ed1(MPa)相对于弹性系数1MPa的比(Ed1>1MPa);Kd2:焊锡安装时的峰值温度下芯片焊接材料的弯曲弹性系数Ed2(MPa)相对于弹性系数1MPa的比(Ed2>1MPa);Ee1:25℃下密封材料的弯曲弹性系数(MPa);Ee2:焊锡安装时峰值温度下密封材料的弯曲弹性系数(MPa);αe1:由半导体装置的成形温度至25℃时的密封材料的平均热膨胀系数(1/℃);αe2:由半导体装置的成形温度至焊锡安装时的峰值温度下的密封材料的平均热膨胀系数(1/℃);αm:引线框架的热膨胀系数(1/℃);ΔT1:半导体装置的成形温度与温度循环时的低温侧温度的差(℃);ΔT2:半导体装置的成形温度与焊锡安装时峰值温度的差(℃)。 | ||
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【主权项】:
1.一种树脂密封型半导体装置,其特征在于,在通过芯片焊接材料将至少一个半导体芯片安装在引线框架的芯片焊接底板上,用密封材料密封的树脂密封型半导体装置中,固化后的芯片焊接材料25℃下的弯曲弹性系数Ed1在1MPa以上,300MPa以下,而且固化后的密封材料和芯片焊接材料的特性满足式(1):σe≤0.2×σb 式(1)其中,σb:25℃时的密封材料的挠曲强度(MPa)σe=(1/log(Kd1))×Ee1×(αm-αe1)×ΔT1 Kd1:25℃时的芯片焊接材料的弯曲弹性系数Ed1(MPa)相对于弹性系数1MPa之比(Ed1>1MPa)Ee1:25℃下密封材料的弯曲弹性系数(MPa)αe1:由半导体装置成形温度至25℃的密封材料的平均热膨胀系数(1/℃)αm:引线框架的热膨胀系数(1/℃)ΔT1:半导体装置成形温度与温度循环时低温侧温度的差(℃)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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