[发明专利]微刻用组合物无效
| 申请号： | 01817583.X | 申请日： | 2001-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1484659A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | L·L·博格;M·K·克劳福德;J·费尔德曼;L·K·约翰逊;F·L·沙德特三世;F·C·小祖姆斯特 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | C08F232/08 | 分类号： | C08F232/08;G03F7/039;G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周慧敏;庞立志 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种含氟聚合物，其由至少一种选自乙烯、α－烯烃、1，1’－二基取代的烯烃、乙烯醇、乙烯基醚和1，3－二烯的间隔基团以及含有具有结构－C(Rf)(Rf’)0Rb的官能团的降冰片烷基制备，其中，Rf和Rf’是1－约10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF2)n，其中n为2－约10，Rb是氢原子或酸－或碱－不稳定保护性基团；r是0－4的整数。这些含氟聚合物的吸光系数在157纳米波长小于4.0μm－1。这些聚合物可用于微刻用的光刻胶组合物中。它们在这种短波长具有高透明性并且还具有其它关键性能，包括良好的抗等离子腐蚀性和粘结性能。 | ||
| 搜索关键词： | 微刻用 组合 | ||
【主权项】：
1.一种含氟聚合物，其由以下物质的至少一种制备：(A)选自乙烯、α-烯烃、1，1’-二基取代的烯烃、乙烯醇、乙烯基醚和1，3-二烯的一种间隔基团；和(B)得自具有以下结构的单体的重复单元：![]()
其中，R1、R2、R3和R4的每一个独立地是氢、卤原子、含有1-10个碳原子的烃基、取代的烃基、烷氧基、羧酸、羧酸酯或含有以下结构的官能团： -C(Rf)(Rf’)ORb其中，Rf和Rf’是1-约10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF2)n，其中n为2-10；Rb是氢或酸-或碱-不稳定保护性基团；r是0-4；重复单元(B)的至少之一具有使R1、R2、R3和R4的至少一个含有结构C(Rf)(Rf’)ORb的结构。
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