[发明专利]通过反应沉积形成涂覆方法有效
| 申请号： | 01817967.3 | 申请日： | 2001-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1471439A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 毕向欣;罗纳德·J·莫索;夏夫库马·奇鲁沃鲁;苏吉特·库马;詹姆斯·T·加德纳;欣·M·林;威廉·E·麦戈维恩 | 申请（专利权）人： | 尼奥弗托尼克斯公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及使用强烈光束进行光反应沉积，形成直接涂覆在基材表面上的颗粒。部分具体例中，涂覆装置包括非圆形的反应物输入口、形成光路径的光元件、第一种基材、及与装置连接的马达。反应物输入口界定反应物流的路径。光路径贯穿反应区处的反应物流路径与反应区连续的产物流路径。基材贯穿产物流路径。而且，马达操作使第一基材相对于产物流移动。本发明叙述使用光驱动化学反应，有效的产生高度均匀涂覆的各种广泛的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 反应 沉积 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂覆装置，包括：形成反应物流路径的非圆形反应物输入；形成在具有来自反应区的产物流路的反应区处贯穿反应物流路径的光路径的光学组件。贯穿产物流路径的第一种基材；及马达，马达操作使第一基材相对于产物流移动。
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