[发明专利]微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂无效
| 申请号： | 01818641.6 | 申请日： | 2001-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN1575438A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | V·A·佩特洛夫;F·L·沙德特三世 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华;郭广迅 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含有聚合物粘合剂，和选自如下的光活性组分的光刻胶组合物：(1)包含全氟烷基的异羟肟酸磺酰氧基酯，全氟烷基包含至少五个碳原子；(2)S－全氟烷基二苯并噻吩鎓盐；和(3)S－全氟烷基二芳基锍盐。这些光活性组分与聚合物粘合剂相容、其可用于在相对较短的波长，如157nm下的曝光成像。 | ||
| 搜索关键词： | 石印 用光 组合 中的 产生 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包括：(a)聚合物粘合剂；和(b)选自如下的光活性组分(1)包含Rf’基团的异羟肟酸磺酰氧基酯，其中Rf’是CmF2m+1，其中m是5-约10的整数；(2)S-全氟烷基二苯并噻吩鎓盐，其中烷基包含1-10个碳原子，和(3)S-全氟烷基二芳基锍盐，其中烷基包含1-10个碳原子。
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