[发明专利]聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用无效
| 申请号： | 01819800.7 | 申请日： | 2001-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1498360A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | L·L·博格;F·L·沙德特三世 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 关立新;郭广迅 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种光刻胶组合物，其中含有(A)至少两种聚合物，选自：(a)一种含有由至少一种烯键式不饱和化合物衍生的重复单元的含氟共聚物，其特征在于，至少一种烯键式不饱和化合物是多环化合物；(b)一种含被保护的酸性基团的支化聚合物，该聚合物含一个或多个沿线性主链化学连接的支链；(c)含至少一种结构为－C(Rf)(Rf′)OH的氟醇基团的含氟聚合物，其中Rf和Rf′是相同或不同的1到约10个碳原子的氟烷基，或者合起来是(CH2)n，其中n是2至10；(d)全氟(2，2－二甲基－1，3－二氧杂环戊烯)或CX2＝CY2的无定形乙烯基均聚物，共中X＝F或CF3，Y＝H，或是全氟(2，2－二甲基－1，3－二氧杂环戊烯)和CX2＝CY2的无定形乙烯基共聚物；和(e)由取代的或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟醇聚合物；和(B)至少一种光活性组分。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 掺混物 及其 用于 微细 光刻 组合 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，其中含有：(A)至少两种聚合物，选自：(a)一种含氟聚合物，其中含有由至少一种烯键式不饱和化合物衍生形成的重复单元，其特征在于，该至少一种烯键式不饱和化合物是多环化合物；(b)一种支化聚合物，其中含有被保护的酸性基团，该聚合物含有一个或多个沿线性主链化学连接的支链；(c)含有至少一种以下结构氟醇基团的一种含氟聚合物： -C(Rf)(Rf′)OH 其中Rf和Rf′是相同或不同的1到约10个碳原子的氟烷基，或者合起来是(CF2)n，其中n是2到约10；(d)全氟(2，2-二甲基-1，3-二氧杂环戊烯)或CX2＝CY2的无定形乙烯基均聚物，其中X＝F或CF3，Y＝-H，或是(2，2-二甲基-1，3-二氧杂环戊烯)和CX2＝CY2的无定形乙烯基共聚物；和(e)由取代或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟醇聚合物；以及(B)至少一种光活性组分。
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