[发明专利]物理汽相淀积靶结构以及处理物理汽相淀积靶的方法无效
| 申请号： | 01820384.1 | 申请日： | 2001-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN1582343A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | J·比勒 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明包括一种处理物理汽相淀积靶的方法(100)。该靶具有溅射表面(136)和在该溅射表面的周缘处的侧壁边缘(105)。该方法包括将一工具压在该侧壁边缘上，以在该靶的侧壁边缘中形成印迹(140)的分布。接着该工具(120)被从该侧壁边缘移去，留下延伸到该侧壁边缘中的印迹。本发明还包括一种物理汽相淀积靶。该靶包括具有外周缘的溅射表面和沿该溅射表面的外周缘的侧壁边缘。该侧壁边缘具有在其中延伸的重复的印迹图案。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 汽相淀积靶 结构 以及 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种处理物理汽相淀积靶的方法，其中所述物理汽相淀积靶具有溅射表面和紧邻所述溅射表面的周缘的侧壁边缘，该方法包括：将工具压在所述侧壁边缘上，以在所述靶的侧壁边缘中形成印迹的分布；以及将所述工具从所述侧壁边缘移去。
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