[发明专利]使用纳米级铜催化剂前体的罗霍奥-米勒直接合成有效

专利信息
申请号: 01821279.4 申请日: 2001-11-16
公开(公告)号: CN1483037A 公开(公告)日: 2004-03-17
发明(设计)人: M·K·莱维斯;S·J·理施尔 申请(专利权)人: 克鲁普顿公司
主分类号: C07F7/16 分类号: C07F7/16;C22C9/10;B01J23/72
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种以较大的二烷基二卤代硅烷选择性制备有机卤代硅烷的直接合成方法。通过使用纳米级铜催化剂前体,以及优选纳米级促进剂,大于10,和优选大于15的D/T值可在硅转化率超过80wt.%的情况下实现。较短的诱导时间在直接合成中使用纳米级铜催化剂而实现。纳米级铜催化剂前体最优选具有低于100纳米的平均颗粒尺寸。
搜索关键词: 使用 纳米 催化剂 罗霍奥 米勒 直接 合成
【主权项】:
1.一种用于直接合成有机卤代硅烷的方法,包括以下步骤:提供硅金属;提供具有结构式RX的有机卤化物,其中R是具有1-10个碳原子的饱和或不饱和脂族或芳族烃基团,和X是卤素;提供选自铜金属,氧化铜(I),氧化铜(II),氯化铜(I),氯化铜(II),羧酸铜(I),羧酸铜(II),其它铜盐,和其混合物的铜催化剂前体,所述铜催化剂前体具有平均颗粒尺寸约0.1-约600纳米;提供一种或多种促进剂;和将所述硅金属,所述有机卤化物和所述铜催化剂前体在实现高二有机二卤代硅烷选择性的时间和温度下反应。
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