[发明专利]具自行钝化铜合金之铜垫\接合\铜线有效
申请号: | 01821652.8 | 申请日: | 2001-11-14 |
公开(公告)号: | CN1484857A | 公开(公告)日: | 2004-03-24 |
发明(设计)人: | H·-J·巴斯 | 申请(专利权)人: | 因芬尼昂技术北美公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L23/485;H01L23/532;H01L23/49;H01L21/60 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴立明;梁永 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种集成电路结构,其改进系包含一线接合铜垫铜线组件,其中该铜垫铜线组件特征为自行钝化、低电阻、高接合力以及改进的抗氧化与腐蚀,该铜垫铜线组件系包含一金属化线路,一衬垫,系分开该金属化线路与围绕一铜垫的一铜合金,一介电层,系围绕该衬垫,以及一铜垫,系与一铜合金线接合,该铜线组件其特征为自行钝化区域系位于一掺杂丰富接口,其中该掺杂丰富接口系位于该铜合金与该衬垫之间、该铜垫的一表面、在该铜垫与该铜合金线间之一接合的一表面、及该铜合金线的一表面。 | ||
搜索关键词: | 自行 钝化 铜合金 接合 铜线 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路结构,其改进系包含一线接合铜垫铜线组件,其中该铜垫铜线组件特征为自行钝化、低电阻、高接合力以及改进的抗氧化与腐蚀,该铜垫铜线组件系包含:一金属化线路;一衬垫,系分开该金属化线路与围绕一铜垫的一铜合金;一介电层,系围绕该衬垫;以及一铜垫,系接合至一铜合金线,该铜线组件其特征为自行钝化区域,系位于:a)一掺杂丰富接口,系位于该铜合金与该衬垫之间;b)该铜垫的一表面;c)在该铜垫与该铜合金线间之一接合的一表面;d)该铜合金线的一表面。
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