[发明专利]物理汽相淀积靶及制造金属材料的方法无效
| 申请号： | 01821701.X | 申请日： | 2001-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN1484711A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | V·塞加尔;S·费尔拉泽;F·E·阿尔福特 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22F1/00;H01J37/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种物理汽相淀积靶，该靶由面心立方单位晶格的金属或合金构成，其平均晶粒尺寸小于30微米，最好是小于1微米；并具有均匀的轴向或平面<220>晶体结构。本发明还公开了一种制造溅射靶的方法。该方法包括制备坯料；以预定的路径和次数进行等槽角挤压；并在等槽角挤压之后进行交叉轧制或锻造。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 汽相淀积靶 制造 金属材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种物理汽相淀积靶，该靶包括具有面心立方单位晶格的材料，该靶具有溅射表面，并包括：分布在整个溅射表面上的主<220>结晶晶体结构；以及整个溅射表面上的平均晶粒尺寸小于或等于约30微米。
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