[发明专利]基片处理过程中用于消除废白粉的装置

摘要

本发明提供了一种用于半导体制造的基片处理系统，该系统包括一处理室，和一排气系统；以及一用于提供清洁气体的装置。该排气系统包括一个真空泵，一个真空排气管道，和一个过滤装置，该过滤装置装在真空泵的下游，且位于排气管道内。本发明还提供一种方法，用于消除或减少排气管道中固体残余物的聚集，该方法是这样实现的：将清洁气体引入处理室并进一步引入排气管道；通过真空泵下游和排气管道内的过滤装置来捕获固体残余物；加热过滤装置，以再激活清洁气体，这些气体与被捕获的固体残余物发生反应，将固体残余物转换为气态残余物；以及通过排气管道释放气态残余物。可用原位和分置式等离子体源清洁法与上述方法相结合使用。

主权项

1.一种基片处理系统，包括：一处理室；一排气系统，其中所述排气系统包括：一真空泵，一真空排气管道，和一过滤装置，其中所述过滤装置安装在所述真空泵的下游，且在所述真空排气管道内；以及一个将至少一种清洁气体提供给处理室的装置。