[发明专利]包含氧化和络合化合物的组合物无效
| 申请号： | 01821936.5 | 申请日： | 2001-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1486279A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | R·沃斯;P·莫滕斯;A·菲斯特;O·多尔;B·考尔比森 | 申请（专利权）人： | 埃什兰公司 |
| 主分类号： | C01B15/037 | 分类号： | C01B15/037;H01L21/306;A61K6/00;D21C9/08;C09K15/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种包含氧化化合物和络合化合物的组合物，所述络合化合物具有下式的化学结构，其中R1、R2、R3和R4选自H和任何有机侧链。氧化化合物可以是水溶液形式。络合化合物用于络合金属离子。金属离子可以存在于溶液中或与溶液接触的外部介质中。本发明可以用于清洁半导体底材。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 氧化 络合 化合物 组合 | ||
【主权项】：
1.包含氧化化合物和络合化合物水溶液的组合物，其中络合化合物具有如下式的化学结构：![]()
其中R1、R2、R3和R4选自H和任何有机侧链。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃什兰公司，未经埃什兰公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01821936.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氢气发生体系和加氢脱卤方法
- 下一篇：含铝的沉淀二氧化硅的制备方法
