[发明专利]包括有若干印制线和微通路的多层电路的制造方法无效

专利信息
申请号: 01822294.3 申请日: 2001-12-24
公开(公告)号: CN1488235A 公开(公告)日: 2004-04-07
发明(设计)人: 罗伯特·卡赛特;温森特·洛伦茨 申请(专利权)人: 盖尔麦公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 郭思宇
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一包括金属通路和微通路的多层互连电路的制造方法。用于制造至少一层的所述方法包括以下阶段:a)在衬底——其表面包括可金属化及/或可能可金属化部分(102)——上,形成含有可引起以后金属化的化合物的第一感光绝缘树脂层(103);b)曝光并显影第一层(103),以有选择地暴露衬底的可金属化及/或可能可金属化部分(102);c)在第一感光绝缘树脂层(113)上和步骤b)中的暴露部分上,通过金属化,形成印制线(111)和金属微通路(110),同时实施第二感光树脂层(105),形成选择性保护,第二感光树脂层(105)要除去。
搜索关键词: 包括 若干 印制 通路 多层 电路 制造 方法
【主权项】:
1、一种包括金属通路和微通路的多层互连电路的制造方法,所述方法包括用于制造至少一层的以下阶段:a)在衬底——其表面包括可金属化及/或可能可金属化部分——上,形成含有可引起以后金属化的化合物的第一感光绝缘树脂层;b)曝光并显影第一层,以有选择地暴露衬底的可金属化及/或可能可金属化部分;c)在第一感光绝缘树脂层上和步骤b)中的暴露部分上,通过金属化形成印制线和金属微通路,同时实施第二感光树脂层形成选择性保护,其特征在于,为实施所述电路层,所述方法包括除去第二感光树脂层的一阶段。
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