[发明专利]用于直接合成三烷氧基硅烷的纳米级铜催化剂前体有效

专利信息
申请号: 01822409.1 申请日: 2001-12-19
公开(公告)号: CN1487944A 公开(公告)日: 2004-04-07
发明(设计)人: K·M·莱维斯;R·N·恩格;S·R·克罗米尔;C-L·奥阳;A·T·梅雷格 申请(专利权)人: 克鲁普顿公司
主分类号: C07F7/02 分类号: C07F7/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 孙爱
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供在式HSi(OR)3的三烷氧基硅烷的直接合成中使用纳米级铜、纳米级氧化铜、纳米级氯化铜、其它纳米级铜盐、及其混合物作为催化铜的来源的方法。
搜索关键词: 用于 直接 合成 三烷氧基 硅烷 纳米 催化剂
【主权项】:
1.在式HSi(OR)3的三烷氧基硅烷的直接合成中使用选自纳米级铜、纳米级氧化铜、纳米级氯化铜、其它纳米级铜盐、及其混合物的物质作为催化铜的来源的方法,其中R为含1至6个碳原子的烷基,所述方法包括:(a)形成包含热稳定溶剂、硅金属、催化有效量的纳米级铜催化剂前体的反应混合物;(b)将所述混合物搅拌和加热就地形成铜活化的硅并向所述反应混合物中注入醇与所述铜活化的硅反应产生所述三烷氧基硅烷;和(c)从反应产物中回收所述三烷氧基硅烷。
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