[发明专利]由辐射固化氟化组合物制备光学器件无效
申请号: | 01822753.8 | 申请日: | 2001-12-13 |
公开(公告)号: | CN1622966A | 公开(公告)日: | 2005-06-01 |
发明(设计)人: | R·布洛圭斯特;L·埃达达;R·诺尔伍德;B·许 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | C08G65/22 | 分类号: | C08G65/22;C08F299/02;C03C25/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周慧敏;张广育 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种有机光波导器件,其使用具有低光损耗和低双折射的全氟聚合物材料。一种光学元件具有基片、有图案的光传输全氟聚合物芯层组合物;和在芯层的图案上的光反射覆盖层组合物。还公开了高效率波导光栅的写入。 | ||
搜索关键词: | 辐射 固化 氟化 组合 制备 光学 器件 | ||
【主权项】:
1.一种制造光学元件的方法,其包括:a)涂敷一种芯层可光聚合组合物到一种载体上形成芯层可光聚合组合物层,所述芯层可光聚合组合物包括至少一种光引发剂和至少一种含有至少一个可光聚合基团的芯层可光聚合单体、低聚体或聚合物,所述芯层可光聚合单体、低聚体或聚合物包括氟化取代基;b)对足够的光化学辐射成像曝光所述芯层可聚合组合物层,进行成像部分的至少部分聚合并且形成所述芯层可光聚合组合物层的至少一个非成像部分;c)去除所述至少非成像部分而不去除所述成像部分,由此由所述成像部分形成光传输的有图案芯层;d)涂敷上覆盖层可聚合组合物到有图案芯层上;和e)至少部分固化所述上覆盖层组合物,其中所述上覆盖层和所述载体的芯层界面具有比芯层更低的折射率。
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