[发明专利]测定绕线可靠性之电子迁移测试结构无效

专利信息
申请号: 01822839.9 申请日: 2001-12-07
公开(公告)号: CN1502132A 公开(公告)日: 2004-06-02
发明(设计)人: J·发泽卡斯;A·马丁;J·冯哈根 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王勇
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明系一种测定绕线可靠性之电子迁移测试结构,在这个测试结构的第一个测试结构连接区(I1)及第二个测试结构连接区(I2)之间有一个包括一个电迁移区(L)及一个电迁移阻障区(V)的待测试区。为了能够以快速加速测试的方式直接精确的估计(半导体电路或薄膜电路的)最大使用寿命,故在非常靠近电迁移阻障区(V)的位置设置第一个感应器接头(S1)及第三个感应器接头(S3),并在第二个测试结构连接区(I2)旁设置第二个感应器接头(S2)。
搜索关键词: 测定 可靠性 电子 迁移 测试 结构
【主权项】:
1.一种测定绕线可靠性之电子迁移测试结构,此种电迁移测试结构具有:--用来施加加热电流的第一个测试结构连接区(I1)及第二个测试结构连接区(I2);--一个待测试区,此待测试区包括一个具有固定的材料流的电迁移区(L)及一个具有较小的材料流的电迁移阻障区(V),而且系设置在两个测试结构连接区(I1,I2)之间;--用来记录待测试之电迁移阻障区(V)及电迁移区(L)失效的第一个感应器接头(S1)及第二个感应器接头(S2);此种电迁移测试结构之特征为:第三个感应器接头(S3)在直接接 近电迁移阻障区(V)的位置与电迁移区(L)接通,而且电迁移区(L)的构造方式使其能够在内部形成大致均匀的温度分布。
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