[发明专利]光复用/去复用器装置,光波长选择滤波器和制造滤波器的方法无效
| 申请号： | 01823743.6 | 申请日： | 2001-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN1559014A | 公开（公告）日： | 2004-12-29 |
| 发明（设计）人： | 贾科莫·戈尼;莫里兹欧·托曼;马珂·罗马格诺力;马泰奥·凯尔基 | 申请（专利权）人： | 皮雷利&C.有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 光复用/去复用器装置(4)包括：基片，所述基片表面上的多个波导(45，46，47，48)，多个波长选择滤波器(452，462，472，482)。所述多个滤波器中的每个滤波器能够透射第一预定频带波长(PB’)和反射第二预定频带波长(SB’)。所述多个滤波器中的每个滤波器包括：在所述波导预定位置上设置的多个横向切口(4521，4522，4523)。所述切口形成提供所述第一预定频带的多个透射型对偶和提供所述第二预定频带的多个反射型对偶。所述透射型对偶与所述反射型对偶互相串联。我们分别地公开波长选择滤波器和制造滤波器的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光复 去复用器 装置 波长 选择 滤波器 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光复用/去复用器装置，包括：-基片，-所述基片上的多个波导，-在所述多个波导中一个波导上实现的至少一个波长选择滤波器，-所述至少一个滤波器能够透射第一预定频带波长(PB’)和反射第二预定频带波长(SB’)，其中所述至少一个滤波器包括：至少有高折射率的第一区和至少有低折射率的第二区，所述第一区与所述第二区相邻，并形成提供所述第一预定频带的多个透射型对偶和提供所述第二预定频带的多个反射型对偶，透射型对偶与反射型对偶互相串联以形成具有高差距调制折射率的结构。
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