[发明专利]光学记录结构中改进的品质因数

摘要

所公开的是对具有沿着凹坑轴(64)的引导(54)以及拖尾(52)端的三维特征(50)之横向剖面形状进行改进，其中，所述凹坑轴具有比形成在光学记录结构上的其他的和特殊的坡道(70，175，177)浅一些的槽(75，77)。剖面形状的改进包含坡道(175，177)高度和宽度的降低、双电平数据标记、循迹引导、以及突出于记录结构表面上或突入到记录结构表面内的平台区域(65a，b，c)。

主权项

1.一种光学记录结构，用于存储选择性可检索的数据，所述结构包括用来包含所述数据之基本均匀的成分的数据层，所述数据层具有：a.第一平面；以及b.第一细长的三维特征，至少其一部分从所述第一平面垂直位移，所述第一特征具有一个与所述第一平面基本平行的主轴、基本上垂直于所述主轴并平行于所述第一平面的横轴、以及基本上垂直于所述主轴并垂直于所述第一平面的一个竖轴，所述第一特征的特征在于，(1)由其横切面限定的所述第一特征的外部形状呈现出：从在所述特征的一个横向边缘上、所述第一特征从所述结构上限定的索引平面开始其位移的点，到在所述第一特征的相对的横向边缘上、从所述限定平面的所述位移结束的点为止，基本上没有斜率的不连续；以及(2)所述第一特征在沿着所述竖轴的第一方向上从所述索引平面的最大位移、与在相对垂直方向上的所述位移之比值，排除了基本上为零的值、基本上为无穷大的值、以及位于从大约0.25延伸到大约4.0的范围内的值。