[发明专利]利用共轭光路量测二维位移量的方法有效

专利信息
申请号: 02100115.4 申请日: 2002-01-04
公开(公告)号: CN1430043A 公开(公告)日: 2003-07-16
发明(设计)人: 张中柱;高清芬;李世光 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G01B11/03 分类号: G01B11/03;G02B27/28;G02B27/42
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 戴元毅
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摘要: 一种利用共轭光路量测二维位移量的方法,包括下列步骤:发自一光源的一光束,入射一绕射单元后,产生至少两束第一绕射光;接着,上述第一绕射光经由波前重现光学组件(wavefrontreconstructionoptics)作用后,循原光路径折回,再入射于上述绕射单元,产生至少两束第二绕射光;接着,上述第二绕射光经由干涉光学组件作用后,产生至少两束干涉光;接着,上述干涉光经由光干涉解相技术处理后,即可获得二维运动中两个线性独立方向上的位移量。
搜索关键词: 利用 共轭 光路量测 二维 位移 方法
【主权项】:
1、一种利用共轭光路量测二维位移量的方法,其特征在于,至少包括下列步骤:自一光源发射一第一入射光;上述第一入射光入射一绕射单元后,产生多束第一绕射光;选择两束同阶的上述第一绕射光,此两束第一绕射光与上述第一入射光轴对称;藉由波前重现光学组件,将上述的两束第一绕射光分别循原光路径再入射上述绕射单元,而形成两组共轭光路;上述第一绕射光循原光路径再入射上述绕射单元后,产生多束第二绕射光;选择两对同阶的上述第二绕射光,其中第一对第二绕射光与上述第一入射光轴对称,第二对第二绕射光亦与上述第一入射光轴对称;上述第一对第二绕射光藉由一干涉光学组件产生一第一干涉光,第二对第二绕射光藉由另一干涉光学组件产生一第二干涉光:以及上述第一与第二干涉光,分别经由光干涉解相技术处理,获得上述绕射单元于二维方向的两个线性独立位移量。
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