[发明专利]部分自行对准接触窗的制造方法

摘要

一种部分自行对准接触窗的制造方法。此方法是在一基底上形成数个栅极，并于栅极侧壁形成衬层，再于衬层侧壁形成保角的氮化硅间隙壁。之后，该些栅极间的基底内形成掺杂区，再进行自行对准金属硅化工艺，以于栅极顶部与掺杂区表面形成自行对准硅化金属层。随后，于基底上形成一层介电层且覆盖这些栅极。接着，图案化此介电层，以形成一接触窗开口，并暴露出栅极间的基底上的自行对准硅化金属层。之后，于接触窗开口侧壁覆盖一接触窗间隙壁，再于接触窗开口内形成接触窗插塞。

主权项

1、一种部分自行对准接触窗的制造方法，其特征是，该方法包括：提供一基底；于该基底上形成多个栅极；于该些栅极侧壁形成一氮化硅间隙壁；于该些栅极间的该基底内形成一掺杂区；于该基底上形成一介电层，且覆盖该些栅极与该氮化硅间隙壁；图案化该介电层，以形成一接触窗开口，以暴露出该掺杂区；于该接触窗开口侧壁形成一接触窗间隙壁；以及于该接触窗开口内形成一接触窗插塞。