[发明专利]内嵌有膜状电阻组件的增层电路板制造方法无效

专利信息
申请号: 02102500.2 申请日: 2002-01-23
公开(公告)号: CN1434676A 公开(公告)日: 2003-08-06
发明(设计)人: 董一中 申请(专利权)人: 全懋精密科技股份有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/16;H01C17/06
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 潘培坤,陈红
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种内嵌有膜状电阻被动组件的增层电路板的制造方法,利用减成技术,首先形成一有机绝缘层于一电路基板上,并在某些预定位置有通孔形成;接着形成一阻挡层图案于该有机绝缘层的某些预定区域上;对所述有机绝缘层进行粗化步骤,阻挡层图案覆盖下的区域粗化可依旧保持平坦;移除该阻挡层图案,并经微粗化过程,使该平坦区域具一所需的较少粗糙度,再于该微粗化区域沉积一电阻层;以微影技术形成一导电层,并在该导电层定义出电路图案,以及在所述电阻层上形成电阻被动组件电极。依实际所需重复上述步骤,则可制造出内嵌有膜状电阻被动组件的高密度增层电路板。
搜索关键词: 内嵌有膜状 电阻 组件 电路板 制造 方法
【主权项】:
1.一种内嵌有膜状电阻被动组件的增层电路板制造方法,其特征在于包括如下步骤:(a)提供一核心板,至少包含一个以上绝缘层及一个以上电路层,该核心板至少一表面的最上层已形成有电路层;(b)在该电路层上形成一有机绝缘层,接着在该绝缘层之一区域上形成一阻挡层图案;(c)对所述绝缘层的表面进行粗化处理;(d)移除该阻挡层图案;(e)在该光阻图案原覆盖下的区域沉积一电阻层;(f)在该电阻层与绝缘层的表面形成一导电层覆;(g)在该导电层定义出电路图案,以及在所述电阻层上形成被动组件的电极(electrode)。
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