[发明专利]一种释放度调节装置无效

专利信息
申请号: 02104313.2 申请日: 2002-02-25
公开(公告)号: CN1440743A 公开(公告)日: 2003-09-10
发明(设计)人: 刘振民 申请(专利权)人: 刘振民
主分类号: A61K9/22 分类号: A61K9/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 050091 石家庄新石北路36*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明是一种用于调整药物释放度的装置,集计算机、激光、自控和制药缓控释技术于一体。广泛用于缓控释制剂、中药制剂、难溶性药物制剂和其它固体制剂释放量的调整。本装置生产能力在3.6-40万片(粒)/小时,蚀孔直径在1-10μm,蚀孔深度为被被蚀物厚度的1%-100%。该装置中的软件涉及到计算药学的大部分内容,药物化学结构与制剂处方设计等资料数据库,能给予新药开发、生产过程更多的帮助。该装置是继压片机使制药工业从规模化推向规模化精确制造的又一重要制药设备。
搜索关键词: 一种 释放 调节 装置
【主权项】:
1、一种药物释放度调节装置,其特征在于由计算机控制系统、药物传输系统、激光发生控制系统和电子控制四部分系统组成。该装置也可用于渗透泵制剂的生产。所述的计算机控制系统,具有良好的人机界面,易操作可控性强,由计算机硬件、专用软件、检测器和计算机控制电路组成。所述的激光发生器是一字形或U型管,一端为高透过率凸透镜的主输出激光头,另一端为通过半透镜镀膜加工可控制与主输出激光头成一定比例,能随时反映主激光功率的辅助激光头。所述的饲料系统刷搅,气流和履带三种方式,避免的堵塞和定位不准等现象。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘振民,未经刘振民许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02104313.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top