[发明专利]布线设计方法无效
申请号: | 02105754.0 | 申请日: | 2002-04-16 |
公开(公告)号: | CN1404133A | 公开(公告)日: | 2003-03-19 |
发明(设计)人: | 穴沢哲哉 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/52;H01L21/60 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 首先,条纹布线A与B相互虚交叉。每一条纹布线A和B中线束的宽度设置为等于或小于在制造过程限制的最大线宽度。然后,将交叉部分条纹布线A和B的线束宽度相互比较,其中较长的线束设置为待移动位置的线束。但是,只有交叉部分的线束需要移动位置。然后,条纹布线A和B的中心线X和Y的交叉点被设置为参考位置,待移动位置的线束向着远离参考位置的方向移动,直到布线占有率等于或小于布线最大占有率的位置,布线最大占有率是根据制造过程的限制条件确定的。 | ||
搜索关键词: | 布线 设计 方法 | ||
【主权项】:
1.一种布线设计方法,用于设计条纹布线的交叉部分,条纹布线由若干限定于固定宽度或更小宽度的线束组成,该方法包括:一个虚交叉步骤,用于设定第一和第二条纹布线以便使它们彼此虚交叉,该条纹布线由若干限定于固定宽度或更小宽度的线束组成;一个布线设置步骤,用于在第一和第二条纹布线交叉部分的线束中将属于两组布线中的任何一组线束设置为待移动位置的线束;一个参考位置确定步骤,用于确定一个参考位置;以及一个线束移动步骤,用于将待移动位置的线束向着远离参考位置的方向,移动到第一和第二条纹布线的每一个在交叉部分的布线占有率等于或小于至少一个最大布线占有率的位置,布线最大占有率是根据制造过程的限制条件确定的。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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