[发明专利]可装设数块光罩的光罩支架及微影曝光系统有效
申请号: | 02106111.4 | 申请日: | 2002-04-03 |
公开(公告)号: | CN1448786A | 公开(公告)日: | 2003-10-15 |
发明(设计)人: | 林本坚 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/16 | 分类号: | G03F1/16;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 台湾省新竹科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种可装设数块光罩的光罩支架及微影曝光系统。一种可装设数块光罩的光罩支架,具有复数个窗口,可装设复数个光罩,以进行微影曝光程序,并在晶圆上定义由这些光罩所组合成的曝光结合区域,其中在每一个光罩的侧边上具有微调装置,可在装设光罩于窗口中时,调整光罩的位置与角度,而使复数个光罩彼此间完全的平行。如此,在使用微影曝光系统时,可移动可装设数块光罩的光罩支架,将要进行曝光的光罩移动至曝光光源下方,以进行微影曝光程序而在晶圆表面,形成由这些光罩任意组合的图案。 | ||
搜索关键词: | 装设 数块光罩 支架 曝光 系统 | ||
【主权项】:
1、一种可装设数块光罩的光罩支架,具有复数个窗口,用以装设复数个光罩,以便进行微影曝光程序,可在晶圆上定义由该复数个光罩所组合的曝光图案,其中在每一个该光罩的侧边上具有微调装置,可在装设该光罩于该窗口中时,调整该光罩的位置与角度,而使该复数个光罩彼此间完全的平行。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02106111.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备