[发明专利]曝光方法及曝光装置无效
| 申请号： | 02106809.7 | 申请日： | 2002-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN1374561A | 公开（公告）日： | 2002-10-16 |
| 发明（设计）人： | 堀和彦 | 申请（专利权）人： | 尼康株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种曝光方法,适用于在基板(P)上接合图案(A、B)以曝光出所希望的图案,此方法是进行一预备曝光工艺以于基板上曝光出与图案(A、B)不同的第一标记(MK)以及接合图案(A、B)。然后,进行一设定工艺,此设定工艺根据基板上所曝光的第一标记(MK)与图案(A、B)之间的相对位置关系,以设定曝光接合图案(A、B)时的补正量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，适用于在一基板上接合一图案并曝光出所希望图案，其特征为：该方法包括：进行一预备曝光工艺以于该基板上曝光出与该图案不同的一第一标记与一接合图案；以及进行一设定工艺，该设定工艺根据曝光于该基板上的该第一标记与该图案间的相对位置关系，设定曝光该接合图案时的补正量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尼康株式会社，未经尼康株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02106809.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
