[发明专利]利用微影蚀刻制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法无效

专利信息
申请号: 02107870.X 申请日: 2002-03-25
公开(公告)号: CN1446691A 公开(公告)日: 2003-10-08
发明(设计)人: 林刘恭;杨明勋;杨长谋;陈贵铨 申请(专利权)人: 飞赫科技股份有限公司
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈红,潘培坤
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种喷墨式打印头的喷孔片的制作方法,是先在一硅芯片表面上形成一第一薄膜,其中第一薄膜内包含有一第一开口,位于硅芯片的一个致动组件上方。然后,依序在第一薄膜上形成一第二薄膜以及一光阻层,其中光阻层内包含有一第二开口,位于该第一开口上方。接着,进行蚀刻制程以去除第二开口下方的第二薄膜,进而在第二薄膜内形成一孔洞,可使第一开口与孔洞连通。
搜索关键词: 利用 蚀刻 制作 喷墨式 打印头 喷孔片 方法
【主权项】:
1.一种喷墨式打印头的喷孔片的制作方法,包括下列步骤:提供一硅芯片,其包含有至少一致动组件;在该硅芯片表面上形成一第一薄膜,该第一薄膜内包含有一第一开口,位于该致动组件上方;在该第一薄膜上覆盖一第二薄膜;在该第二薄膜上形成一光阻层,该光阻层内包含有一第二开口,位于该第一开口上方;以及进行蚀刻制程,将该光阻层的开口下方的该第二薄膜去除,以在该第二薄膜内形成一孔洞,以使该第一开口与该孔洞连通。
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