[发明专利]半导体存储装置及其驱动方法无效
申请号: | 02108021.6 | 申请日: | 2002-03-25 |
公开(公告)号: | CN1379475A | 公开(公告)日: | 2002-11-13 |
发明(设计)人: | 嶋田恭博;加藤刚久;山田隆善 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;G11C11/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体存储装置及其驱动方法,半导体存储装置具有铁电体电容器,即使由于电子或空穴的注入使施加在铁电体电容器上的电位差消失,也能够读出铁电体电容器所保持的数据。半导体存储装置的结构是由源区(101)、漏区(102)、沟道区(103)、栅绝缘膜(104)及浮置栅电极(105)构成场效应晶体管,通过绝缘膜在该场效应晶体管上设置铁电体电容器(113),铁电体电容器由铁电体膜(110)和上侧的第1电极(111)及下侧的第2电极(112)组成。将铁电体膜(110)的极化方向下向、且铁电体膜(110)具有几乎饱和极化值的第1状态作为数据“1”写入的同时,将铁电体膜的极化方向下向、且铁电体膜(110)具有几乎为零的极化值的第2状态作为数据“0”写入。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 及其 驱动 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其特征在于:形成在半导体衬底上,具备铁电体电容器、数据写入单元和数据读出单元;铁电体电容器,具有铁电体膜、在所述铁电体膜上形成的第1电极和在铁电体膜下形成的第2电极;数据写入单元,由使所述铁电体膜发生第1状态或是第2状态、在所述铁电体电容器上写入与所述第1状态或第2状态相对应的数据,第1状态时,所述铁电体膜的极化方向从所述第1电极向着所述第2电极的方向或者从所述第2电极向着第1电极的方向、而且所述铁电体膜保持几乎饱和的极化值,第2状态时,所述铁电体膜的极化方向与所述第1状态方向相同、而且所述铁电体膜保持几乎为零的极化值;数据读出单元,由检测所述铁电体电容器是所述第1状态或是所述第2状态、读出存储在所述铁电体电容器上的数据。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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