[发明专利]光学用膜有效
申请号: | 02108218.9 | 申请日: | 2002-03-27 |
公开(公告)号: | CN1378089A | 公开(公告)日: | 2002-11-06 |
发明(设计)人: | 所司悟;小野泽丰;丸冈重信 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04;G02B1/11 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种光学用膜,包括(A)包含通过电离放射线固化的树脂的硬涂层,(B)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.70至1.95范围内的高折射率层I,(C)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.60至1.70范围内的高折射率层II,和(D)包含硅氧烷类聚合物的、折射率在1.37至1.47范围内的低折射率层,(A)至(D)层依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性,可以低成本生产。 | ||
搜索关键词: | 光学 | ||
【主权项】:
1.一种光学用膜,包括:(A)包含通过电离放射线固化的树脂的、厚度在2至20μm范围内的硬涂层,(B)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.70至1.95范围内的、厚度在30至120nm范围内的高折射率层I,(C)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.60至1.70范围内的、厚度在5至70nm范围内的高折射率层II,和(D)包含硅氧烷类聚合物的、折射率在1.37至1.47范围内的、厚度在60至180nm范围内的低折射率层,(A)至(D)层依次层叠在基膜的至少一面上。
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