[发明专利]灰调掩模缺陷检查方法及装置和光掩模缺陷检查方法及装置有效
申请号: | 02108247.2 | 申请日: | 2002-03-28 |
公开(公告)号: | CN1401993A | 公开(公告)日: | 2003-03-12 |
发明(设计)人: | 中西胜彦 | 申请(专利权)人: | 保谷株式会社 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/59;G03F1/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种保证灰调掩模中灰调部的透射率的缺陷检查方法及缺陷检查装置。该缺陷检查方法,用来检查具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模的缺陷,其中灰调部是调整透射量的区域,目的是减少透射过该区域的光的透射量而可选地改变光敏抗蚀剂的膜厚。使用扫描掩模内的图形所得到的透射率信号,针对该透射率信号7,设定灰调部中透射率缺陷的阈值为8a、8b,在超过该阈值8a、8b时,判断为灰调部中发生透射率缺陷。 | ||
搜索关键词: | 灰调掩模 缺陷 检查 方法 装置 光掩模 | ||
【主权项】:
1.一种缺陷检查方法,用来检查具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模的缺陷,其中灰调部是调整透射量的区域,目的是减少透射过该区域的光的透射量而可选地改变光敏抗蚀剂的膜厚,其特征在于,使用扫描掩模内的图形所得到的透射率信号,对于该透射率信号,设有灰调部中透射率缺陷的阈值,在超过该阈值时,判断为灰调部中发生透射率缺陷。
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