[发明专利]射线降解水产品中残留氯霉素的方法无效
| 申请号： | 02111785.3 | 申请日： | 2002-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1459247A | 公开（公告）日： | 2003-12-03 |
| 发明（设计）人： | 崔登来;施惠栋;谢宗传 | 申请（专利权）人： | 宁波超能科技股份有限公司 |
| 主分类号： | A23L1/325 | 分类号： | A23L1/325;A23L3/26 |
| 代理公司： | 浙江翔隆专利事务所 | 代理人： | 白洪长 |
| 地址： | 315470 浙江省余姚市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种涉及原子能技术的应用、辐照加工领域的射线降解水产品中残留氯霉素的方法，是针对目前各国尚无方法降解水产品中残留的氯霉素这一问题而提出的。本方法是用一定能量、剂量的射线辐照降解水产品残留氯霉素93％以上。技术方案要点是在原包装下用电子束能量6－MeV，也可以用钴－60γ射线，能量1.33MeV；吸收剂量6－10kGy，辐照吸收剂量均匀度＜1.4的状态下，辐照水产品降解其中氯霉素。采用高能量(10－MeV以上)、大功率(3kW以上)辐照加工用电子加速器，也可以用钴－60γ辐照装置，配以专用的吸收剂量计和配套的辐照箱。本发明解决了水产品在国际贸易中的一个焦点问题，有一定的推广应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 降解 水产品 残留 氯霉素 方法 | ||
【主权项】：
1、一种射线降解水产品中残留氯霉素的方法，是在原包装情况下，用射线辐照降解氯霉素，杀死其中微生物和致病细菌，该方法的特征是射线降解水产品残留氯霉素，所用的电子束能量6-10MeV；所用的能量也可以是钴-60γ射线，能量1.33MeV；吸收剂量均为6-10kGy，辐照吸收剂量均匀度＜1.4的状态下，辐照水产品降解其中氯霉素。
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