[发明专利]红外线干涉膜滤光镜无效

专利信息
申请号: 02112327.6 申请日: 2002-07-01
公开(公告)号: CN1465963A 公开(公告)日: 2004-01-07
发明(设计)人: 万安利 申请(专利权)人: 上海成和塑料有限公司
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00;G01J3/26;G02B5/28
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 代理人: 严新德
地址: 200070*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种超高温测量系统使用的,有选择地让所需波长光线穿透并对红外线反射的滤光镜。由一块石英玻璃表面上涂覆5至13层二氧化硅形成的低折射率层和由二氧化钛形成的高折射率层,相互重复叠加构成。二氧化硅低折射率层至少包含5%至10%五氧化二磷和三氧化二硼之一的添加剂,涂层厚度0.2到0.4微米。玻璃浸入四异丙氧基钛乙醇溶液,晾干后在550℃左右空气中烘烤10分钟形成高折射率层;继续将上述玻璃浸入四烷氧基硅烷凝聚乙醇溶液(已添加磷或硼化合物),晾干后在550℃左右的空气中烘烤10分钟形成低折射率层。
搜索关键词: 红外线 干涉 滤光
【主权项】:
1.一种红外线干涉膜滤光镜,在一块石英玻璃或者硼硅酸盐玻璃表面上,涂覆至少有五层含SiO2的低折射率层和TaO2的高折射率层,相互交替重叠在一起,含SiO2的低折射率层还增添了P2O5添加物,其特征是:所说的低折射率层其涂层厚度为0.2至0.4微米,每一层由第一聚合物形成的多层构成的第二组介电反射层单元,第二聚合物的折射率不同于第一聚合物,通过交替地层叠第一聚合物层和第二聚合物层来组合第一和第二组介电反射层单元。
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