[发明专利]铜化学－机械抛光工艺用抛光液无效
| 申请号： | 02114147.9 | 申请日： | 2002-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1459480A | 公开（公告）日： | 2003-12-03 |
| 发明（设计）人： | 胡岳华;何捍卫 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中南大学专利中心 | 代理人： | 龚灿凡 |
| 地址： | 41008*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种铜化学－机械抛光工艺用抛光液，本发明包括成膜剂和成膜助剂和磨粒，成膜剂是由强碱与醋酸混合后组成的缓冲溶液构成，成膜助剂为硝酸钾(钠)盐，磨粒为Al2O3或SiO2。本发明适用范围广，抛后清洗方便，配方原料普通易得，施用成本低，抛光液腐蚀性小，抛光效果好，Ra≤80nm、Rmax≤460nm、Rz≤380nm。本发明适合于金属铜，包括由铜组成的各种元器件。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 工艺 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种铜化学-机械抛光工艺用抛光液，其特征在于：本发明由化学溶液配方和磨粒组成，化学溶液配方包括成膜剂和成膜助剂，成膜剂是由强碱与醋酸混合后组成的缓冲溶液构成，溶液中醋酸根的总浓度为0.05～0.20mol/L，溶液pH为弱碱性，pH范围为8～11.5，成膜助剂为硝酸钾(钠)盐，组成配方后在缓冲溶液中的浓度为0.10～0.30mol/L，磨粒为Al2O3或SiO2，粒径范围为10～1500nm，施用时加入的重量为溶液重量的5～25％。
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