[发明专利]有机复合累托石及其制备方法无效
| 申请号： | 02115758.8 | 申请日： | 2002-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1385470A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 方鹏飞;王少阶;张明;戴益群;张少平;王波 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C08L101/00 | 分类号： | C08L101/00;C08K3/34 |
| 代理公司： | 武汉天力专利事务所 | 代理人： | 程祥,冯卫平 |
| 地址： | 430072*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种有机复合累托石,其基本组成为累托石1～100份、有机插层剂0.2～30份、质子化剂0.01～5.0份,以上均为重量份数。上述有机复合累托石的制法,将累托石分散在水中形成稳定的悬浮液;另将有机插层剂、质子化剂加入到水中,搅拌形成溶液后,加入到上述悬浮液中,所得混合物再高速搅拌、过滤、洗涤、干燥、粉碎即得所需有机复合累托石。本发明将累托石经有机插层改性后,其层间距增大至4纳米左右,同时表面由亲水性转变为亲油性,能分散于甲苯、乙醇、丙酮等有机溶剂中;与单体或聚合物熔体作用,在聚合或混合过程中能剥离成纳米尺度的结构片层并均匀分散到聚合物基体中,制得聚合物纳米复合材料。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 复合 累托石 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种有机复合累托石，其基本组成为：累托石1～100份、有机插层剂0.2～30份、质子化剂0.01～5.0份，以上均为重量份数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学，未经武汉大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02115758.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：应用于等离子体平面显示器上的误差扩散的方法
- 下一篇：超分辨力投影光刻物镜
