[发明专利]一种超细晶、纳米晶涂层的形成工艺无效
| 申请号： | 02117567.5 | 申请日： | 2002-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1377737A | 公开（公告）日： | 2002-11-06 |
| 发明（设计）人： | 刘宗德;杨昆 | 申请（专利权）人： | 华北电力大学(北京) |
| 主分类号： | B05D1/02 | 分类号： | B05D1/02;B05D1/08;B05D3/00;B05B7/16 |
| 代理公司： | 北京振安创业专利代理有限责任公司 | 代理人： | 祁纯阳 |
| 地址： | 102*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及的一种超细晶、纳米晶涂层的形成工艺,其步骤如下(1)对基体的待涂覆表面作清污、除锈、除油等常规预处理;(2)将涂层材料加工成一定直径的线材或一定尺寸的箔状后,置放在距离基材待涂覆表面的适当距离;(3)上述涂层材料中通过瞬时大电流,发生电爆后形成的飞散速度为500－3000m/s的微粒冲击待涂覆基体的表面,形成超细晶、纳米晶涂层。本发明具有显著的优点,其形成的金属涂层与基体材料产生冶金结合和高速流体质量扩散,涂层与基体的结合强度高;可用于制备耐磨、耐蚀及抗氧化涂层,喷涂部件的寿命长,喷涂厚度可控制,任何导电材料或合金材料均可作为涂层材料,成本低并无环境污染,具有良好的经济和社会效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超细晶 纳米 涂层 形成 工艺 | ||
【主权项】：
1：一种超细晶、纳米晶涂层的形成工艺，其步骤如下。(1)对基体的待涂覆表面作常规预处理；(2)涂层材料加工成一定直径的线材或一定尺寸的箔状后，置放在距离基材待涂覆表面的适当距离；(3)在上述涂层材料中通过瞬时大电流，发生电爆炸后形成的飞散速度为500-3000m/s的微粒冲击待涂覆基体的表面，形成超微晶体或纳米晶涂层。
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