[发明专利]投影光学系统和具有该投影光学系统的曝光装置无效
| 申请号： | 02118048.2 | 申请日： | 2002-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1423147A | 公开（公告）日： | 2003-06-11 |
| 发明（设计）人： | 末永丰 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G02B27/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴,朱登河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种高分辨率的投影光学系统,能够抑制透镜外径变大,同时确保像方数值孔径大。该投影光学系统像方数值孔径为0.75以上、基于波长为300nm以下的所定光把第一物体(3)的像形成在第二物体上的投影光学系统。从第一物体一侧顺次具有正光焦度的第一透镜组G1、负光焦度的第二透镜组G2、正光焦度的第三透镜组G3和正光焦度的第四透镜组G4。沿着第四透镜组G4的最靠近第二物体一侧的光学面与第二物体之间的光轴的距离D(mm)满足条件0.1 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 具有 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种投影光学系统，其像方数值孔径为0.75以上、基于波长为300nm以下的所定光把第一物体的像形成在第二物体上，从第一物体一侧顺次具有正光焦度的第一透镜组(G1)、负光焦度的第二透镜组(G2)、正光焦度的第三透镜组(G3)和正光焦度的第四透镜组(G4)，其特征在于：上述第四透镜组(G4)的最靠近第二物体一侧的光学面与上述第二物体之间沿着光轴的距离D(mm)满足如下条件：0.1＜D＜5(1)
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