[发明专利]一种抛光垫无效
申请号: | 02118060.1 | 申请日: | 2002-04-22 |
公开(公告)号: | CN1453828A | 公开(公告)日: | 2003-11-05 |
发明(设计)人: | 郑志贤;刘裕腾 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B24B7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒,魏晓刚 |
地址: | 台湾省新竹科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种抛光垫。该抛光垫包含有一第一层,一第二层,一孔洞及一插塞。该孔洞形成于该抛光垫中,并包含有一位于该抛光垫的该第一层中的第一部分及一位于该抛光垫的该第二层中的第二部分。该插塞置于该孔洞中,且具有一上部及一下部。该上部置于该孔洞的该第一部分中,而该下部置于该孔洞的该第二部分中。由于该插塞与抛光垫等高,因此可以避免水滴残留等问题,而准确地检测出化学机械抛光工艺的终点。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光 | ||
【主权项】:
1.一种抛光垫包含有:一第一层;一第二层;一孔洞,形成于该抛光垫中,该孔洞包含有:一第一部分,位于该抛光垫的该第一层中;以及一第二部分,位于该抛光垫的该第二层中;以及一插塞,置于该孔洞中;其中该插塞具有一上部及一下部,该上部置于该孔洞的该第一部分中,而该下部置于该孔洞的该第二部分中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02118060.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:润滑油抗氧剂的制备
- 下一篇:一种治疗白血病的中药丸及其配制方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造