[发明专利]具有超高充电稳定性的多层驻极体及其制造方法无效
| 申请号： | 02118064.4 | 申请日： | 2002-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1427430A | 公开（公告）日： | 2003-07-02 |
| 发明（设计）人： | 赵琴行;李源泽 | 申请（专利权）人： | BSE株式会社 |
| 主分类号： | H01G7/02 | 分类号： | H01G7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒,魏晓刚 |
| 地址： | 韩国仁川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种具有超高充电稳定性的多层驻极体及其制造方法，该驻极体能抵御高温以通过表面安装技术加工。该多层驻极体构造成：12.5～25μm厚的FEP膜熔融粘接在金属片表面且30～100μm厚的PTFE膜熔融粘接在FEP膜表面。制造具有超高充电稳定性的多层驻极体的方法包括：一、将FEP膜叠置在金属片上；二、在高温下加热其上叠置有FEP膜的金属片并在其上施加高压，由此FEP膜和金属片彼此熔融粘接；三、在粘接到金属片上的FEP膜上叠置PTFE膜；四、加热该叠层结构并对其施加高压，由此PTFE膜熔融粘接到FEP膜上；五、冷却合成结构以完成驻极体；六、用电荷充电冷却的驻极体。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 超高 充电 稳定性 多层 驻极体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多层驻极体，其由如下方式构造，即12.5μm～25μm厚的FEP膜熔融粘接在金属片表面，且30μm～100μm厚的PTFE膜熔融粘接在FEP膜的表面。
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