[发明专利]偏振膜及其制造方法、偏振片、光学构件无效
| 申请号： | 02118184.5 | 申请日： | 2002-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN1453598A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 土本一喜;近藤诚司;西田昭博 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;C08J5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰,叶恺东 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种液晶显示装置用的具有高偏振度、高透射率的偏振膜及其制造方法、以及使用它的偏振片、光学构件。本发明的偏振膜的制造方法是使聚乙烯醇类膜进行干式单轴延伸后，在含有碘的水溶液或含有二色性染料的水溶液中进行松弛，再在含有PVA交联剂的水溶液中使该松弛膜延伸。理想情况是，聚乙烯醇类膜的干式延伸倍率为二倍以上，松弛膜的延伸倍率为1.02倍以上，总延伸倍率为6.5倍以下。另外，松弛率最好为干式延伸倍率的10％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 及其 制造 方法 光学 构件 | ||
【主权项】：
1.一种偏振膜的制造方法，其特征在于：使聚乙烯醇类膜进行干式单轴延伸后，在含有碘的水溶液或含有二色性染料的水溶液中松弛，再在含有PVA交联剂的水溶液中使该松弛膜延伸。
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