[发明专利]水处理装置有效
| 申请号： | 02118196.9 | 申请日： | 2002-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1157341C | 公开（公告）日： | 2004-07-14 |
| 发明（设计）人： | 中西稔;岸稔;稻本吉宏;广田达哉;川村保;河村要藏;近藤文刚 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/467 | 分类号： | C02F1/467;C02F1/50 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种水处理装置，具有：蓄留被处理水的水槽；电解槽，通过至少由两块电极板构成的电极组通电，进行电解；水处理路径，把上述被处理水从水槽导入电解槽内，而且通过电解槽内的电解灭菌处理后循环流到水槽内；水位检测装置，检测出上述电解槽内的水位；水位控制装置，根据水位检测装置检测的水位数据，调整被处理水流入电解槽内的流入量，把该电解槽内的水位保持在所定水位；其中，构成如下形式，即上述水位检测装置具有通过相互之间的间隔相对设置的至少两个电极，通过这些电极相互之间有无电流流过检测水位。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种水处理装置，具有：蓄留被处理水的水槽；电解槽，通过至少由两块电极板构成的电极组通电，进行电解；水处理路径，把上述被处理水从水槽导入电解槽内，而且通过电解槽内的电解灭菌处理后循环流到水槽内；水位检测装置，检测出上述电解槽内的水位；水位控制装置，根据水位检测装置检测的水位数据，调整被处理水流入电解槽内的流入量，把该电解槽内的水位保持在所定水位；其特征在于：构成如下形式，即上述水位检测装置具有通过相互之间的间隔相对设置的至少两个电极，通过这些电极相互之间有无电流流过检测水位。
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