[发明专利]为防止第二位元效应的非挥发性记忆晶胞有效
申请号: | 02118462.3 | 申请日: | 2002-04-24 |
公开(公告)号: | CN1453873A | 公开(公告)日: | 2003-11-05 |
发明(设计)人: | 蒋富成;张国华 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种为防止第二位元效应的非挥发性记忆晶胞,该记忆晶胞的构造包括在一半导体基底上的一通道两侧的一对源/汲极区域,在该通道上方的可程式化层,以及在该可程式化层上方的闸极导体,其特点在于:该可程式化层与该对源/汲极区域分别具有第一及第二边界宽度,该可程式化层自身具有一最大宽度为第三宽度大于该第一及第二宽度。该可程式化层包括一陷阱介电层夹置在二绝缘层之间,该陷阱介电层为氮化物或具有埋藏多晶矽岛的氧化物。 | ||
搜索关键词: | 防止 第二 位元 效应 挥发性 记忆 晶胞 | ||
【主权项】:
1.一种为防止第二位元效应的非挥发性记忆晶胞,包括:一通道在一基底上;一对源/汲极在该基底上分别位于该通道的两侧;一可程式化层在该通道上方;及一闸极导体在该可程式化层上方;其中,该可程式化层与该对源/汲极区域之间分别具有第一及第二边界宽度,该可程式化层具有一最大宽度实质上大于该第一及第二边界宽度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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