[发明专利]由具有酰亚胺基团的聚合物材料制成的印版的构图和构图消除无效
| 申请号： | 02118495.X | 申请日： | 2002-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN1387998A | 公开（公告）日： | 2003-01-01 |
| 发明（设计）人： | 华金·巴雷拉·卡尔德龙 | 申请（专利权）人： | 海德堡印刷机械股份公司 |
| 主分类号： | B41C3/06 | 分类号： | B41C3/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 戴建波 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用来在印版(30)上生成具有亲水区域(34)和疏水区域(32)结构的方法,印版在最初的、基本上未结构化的状态下为具有酰亚胺基团的聚合物材料,例如聚苯二酰亚胺和聚酰胺酰亚胺。该方法包括通过紫外光线进行局部的有选择的曝光及随后的用氧化剂化学处理表面。还可任选地在局部有选择的曝光之前,用强碱对表面进行大面积的化学处理。通过用强酸对表面的大面积化学处理,印版(30)又可回复到最初的状态。结构化了的印版(30)适用于胶印。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 亚胺 基团 聚合物 材料 制成 构图 消除 | ||
【主权项】：
1、一种在表面上生成具有亲水区域(34)和疏水区域(32)结构的方法，该表面在最初的、基本上未结构化的状态时为带有酰亚胺基团的聚合物材料，其特征在于，通过局部的电磁能量的辐照而局进行部有选择的曝光，然后用氧化剂对所述表面进行化学处理。
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