[发明专利]抑制陷穴的方法和用于阳离子电沉积涂料组合物的陷穴抑制剂有效
申请号: | 02119085.2 | 申请日: | 2002-03-28 |
公开(公告)号: | CN1385485A | 公开(公告)日: | 2002-12-18 |
发明(设计)人: | 矢本修平;须田晃一;村濑久仁雄 | 申请(专利权)人: | 日本油漆株式会社 |
主分类号: | C09D163/00 | 分类号: | C09D163/00;C09D5/44 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 庞立志,谭明胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种新的陷穴抑制方法和陷穴抑制剂,该陷穴抑制剂不含丙烯酸树脂并因此增加了加入到的涂料组合物中的机会,也改善了涂料组合物制备方法的自由度。该方法包括用包括含有特定结构的聚醚链的氨基聚醚改性的环氧作为添加剂的电沉积涂料组合物进行电沉积涂覆。 | ||
搜索关键词: | 抑制 方法 用于 阳离子 沉积 涂料 组合 抑制剂 | ||
【主权项】:
1、一种在形成涂膜时抑制涂膜中产生陷穴的方法,所述涂膜使用包括下列步骤的方法形成:在被涂覆的物体上进行电沉积涂覆;烘烤该电沉积涂膜,其中用这样的电沉积涂料组合物进行电沉积涂覆,该电沉积涂料组合物含有作为添加剂的带有聚醚链的下列氨基聚醚改性环氧:数均分子量为20,000-100,000的氨基聚醚改性的环氧,它可以这样获得:使数均分子量为150-3000、含有聚醚链和两个伯氨基或仲氨基的氨基聚醚与数均分子量为300-7000带有两个环氧基的双环氧化合物反应,它们的用量是,氨基聚醚中的伯氨基或仲氨基基于双环氧化合物中的环氧基的当量比为1.05-1.8。
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