[发明专利]防止静电破坏的光罩有效
申请号: | 02119722.9 | 申请日: | 2002-05-15 |
公开(公告)号: | CN1459667A | 公开(公告)日: | 2003-12-03 |
发明(设计)人: | 吴天启;陈国洲;徐怀仁;黄志雄 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 台湾省新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是一种防止静电破坏的光罩,首先在光罩的铬金属接近边缘处形成一环形图案,其中该环形图案具内封环,与彼此相隔等距且与内封环成平行排列的复数个分离外封环。而,内、外封环间具有复数个微细小针,每一微细小针的一端分别和内、外封环的其中的一连接,另一端则和对应的内、外封环保留一空隙。其中上述的每个分离外封环仅连接一根微细小针。 | ||
搜索关键词: | 防止 静电 破坏 | ||
【主权项】:
1.一种具防止静电破坏的光罩,至少包含:一光罩基座,以透光物质组成;一不透光导电薄膜,形成于该光罩基座的上;复数个断续封环图案,具相等断续长度并等距分隔,环绕于该不透光导电薄膜周边;一封环图案,以平行于该复数个断续封环图案的方式,排列于该复数个断续封环图案内侧;以及复数个针形图案,位于该封环图案与该复数个断续封环图案之间,且该复数个针形图案的一端以间隔的方式分别与该封环图案与该复数个断续封环图案衔接,另一端则保留一等距空隙。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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