[发明专利]制程反应室视窗改良无效
| 申请号： | 02120108.0 | 申请日： | 2002-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1459830A | 公开（公告）日： | 2003-12-03 |
| 发明（设计）人： | 陈庆任;陈明元;吕水烟;刘德国 | 申请（专利权）人： | 矽统科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/3065 | 分类号： | H01L21/3065;H05H1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种制程反应室视窗改良，至少包含，一环形垫圈，位于视窗开口周围的反应室主体外壁上，一石英材质视窗，压覆于环形垫圈上，一缓冲垫，压覆于石英视窗上，此一缓冲垫具有与该石英视窗同形的一开口，且开口的面积小于石英材质视窗的面积，一观看窗，压覆于缓冲垫之上，一固定架，压覆于观看窗之上。反应室主体、缓冲垫，观看窗和固定架均具有复数个螺孔位于相对应的位置，可藉由复数个螺栓穿过螺孔而将环形垫圈、石英视窗、缓冲垫、观看窗和固定架固定于反应室主体之上。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 视窗 改良 | ||
【主权项】：
1.一种制程反应室视窗改良装置，其特征在于，该制程反应室视窗包括一石英材质视窗，该装置至少包含：一缓冲垫，压覆于该石英材质视窗上，其中，该缓冲垫具有复数个螺孔，可藉由复数个螺栓穿过该些螺孔而将该缓冲垫固定于该电浆制程反应室的视窗上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
