[发明专利]硅光电器件以及利用这种器件的发光设备无效
申请号: | 02120168.4 | 申请日: | 2002-04-17 |
公开(公告)号: | CN1431720A | 公开(公告)日: | 2003-07-23 |
发明(设计)人: | 崔秉龙;南升浩;李银京;刘在镐;金俊永 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L31/00 | 分类号: | H01L31/00;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 肖鹂,陈小雯 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种硅光电器件和利用此硅光电器件的发光设备。此硅光电器件包括:基于n-型或p-型硅的衬底;在衬底的一个表面上形成并用预定掺杂剂掺杂到超浅深度的掺杂区,上述预定掺杂剂为与衬底相反的类型,以便在掺杂区和衬底之间的p-n结通过量子约束提供光电转换效应;在衬底上形成并将与掺杂区电连接的第一和第二电极。此硅光电器件进一步包括在衬底的一个表面上形成的控制层,以便用作形成掺杂区中的掩模并且用于限制超浅的掺杂区的深度。硅光电器件具有优异性能并可以用作发光器件或光接收器件。由于光电器件采用硅作为基础原料,它可以以低成本制造。 | ||
搜索关键词: | 光电 器件 以及 利用 这种 发光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种硅光电器件,包括:基于n-型或p-型硅的衬底;在衬底的一个表面上形成并用预定掺杂剂掺杂到超浅深度的掺杂区,上述预定掺杂剂为与衬底相反的类型,以便在掺杂区和衬底之间的p-n结中通过量子约束提供光电转换效应;在衬底上形成并将与掺杂区电连接的第一和第二电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02120168.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的