[发明专利]水处理装置有效
| 申请号： | 02120430.6 | 申请日： | 2002-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1388069A | 公开（公告）日： | 2003-01-01 |
| 发明（设计）人： | 山本一浩;岸稔;稻本吉宏;广田达哉;川村保;野吕拓哉 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/467 | 分类号： | C02F1/467 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种水处理装置。一种对水槽内蓄留的被处理水进行灭菌处理的水处理装置,具有循环处理路径,把水槽内蓄留的被处理水汲出,电解被处理水进行灭菌后返回水槽内;灭菌液制造装置,通过电解含有氯离子而且具有促进电化学反应作用的电解质溶液,制造具有灭菌作用的灭菌液供给装置,把所制造的灭菌液随时供给循环处理路径。通过这样的装置,能够在循环处理路径中时常对被处理水进行灭菌处理,同时根据被处理水的水质变化,能够根据需要把灭菌液制造装置制造的灭菌液追加供给到循环处理路径。这样,被处理水能够时常保持良好的水质。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种水处理装置，其特征在于具有：循环处理路径，把水槽内蓄留的被处理水汲出，电解被处理水进行灭菌后返回水槽内；间歇处理装置，具有：第一电解槽，通过给具有至少两个电极板的电极组通电，电解所蓄留的液体制造具有灭菌作用的灭菌液；把含有氯离子而且具有促进电化学反应作用的电解质溶液供给第一电解槽的装置；以及调整第一电解槽中制造的灭菌液浓度的装置；把间歇处理装置制造的灭菌液随时供给循环处理路径的装置。
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